ASML heeft een groot probleem bij de ontwikkeling van zijn nieuwe generatie chipmachines: er is nog steeds geen stralingsbron beschikbaar die met voldoende vermogen een golflengte van 13,5 nm, in het extreem ultraviolette gebied (EUV ) kan uitzenden. Onlangs kondigde ASML aan laserproducent Cymer te willen inlijven om de ontwikkeling van zo’n bron in eigen hand te nemen -    slecht nieuws voor het Duitse bedrijf XTRE ME technologies, dat al honderden miljoenen in de ontwikkeling heeft geïnvesteerd.

Om steeds kleinere chips te maken wil ASML in Veldhoven, ’s werelds grootste fabrikant van lithografiemachines voor de chipindustrie, extreem ultraviolette straling (EUV) gebruiken. Om de golflengte van 193 naar 13,5 nm te krijgen moet een compleet nieuwe technologie worden ontwikkeld. Dat is dankzij grote inspanningen gelukt, maar er resteert nog één groot probleem: er is nog steeds geen EUV-stralingsbron met voldoende vermogen beschikbaar. Het Amerikaanse Cymer en het Duitse XTREME technologies zijn in de race om zo’n bron te leveren, maar liggen allebei door aanhoudende tegenslagen ver achter op schema. Onlangs kondigde ASML onverwacht aan laserproducent Cymer voor twee miljard euro te willen kopen om de ontwikkeling van de EUV-bron in eigen hand te nemen. Het ziet ernaar uit dat XTREME het nakijken heeft.

Lees verder het artikel uit De Ingenieur van november 2012.